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学科主题: 光学薄膜
题名:
沉积温度对电子束蒸发HfO2薄膜残余应力的影响
其他题名: Influences of deposition temperature on residual stress of HfO2 films prepared by electron beam evaporation
作者: 申雁鸣 ; 贺洪波 ; 邵淑英 ; 范正修
关键词: 薄膜 ; HfO2薄膜 ; 残余应力 ; 沉积温度 ; 基底 ; 电子束蒸发
刊名: 中国激光
发表日期: 2006
卷: 33, 期:6, 页:827
收录类别: ei
摘要: 采用电子束蒸发沉积方法在BK7玻璃基底和熔融石英基底上沉积了HfO2薄膜,研究了不同沉积温度下的应力变化规律。利用ZYGO干涉仪测量了基片镀膜前后曲率半径的变化,计算了薄膜应力。结果发现在所考察的实验条件下HfO2薄膜的残余应力均为张应力,应力值随沉积温度的升高先增大后减小。两种基底上薄膜的残余应力的主要产生机制不同。对于BK7玻璃基底HfO2薄膜的残余应力起决定作用的是内应力,熔融石英基底上HfO2薄膜的残余应力在较低沉积温度下制备的薄膜起决定作用的是热应力,在沉积温度进一步升高后内应力开始起决定作用。
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4292
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申雁鸣,贺洪波,邵淑英,等. 沉积温度对电子束蒸发HfO2薄膜残余应力的影响[J]. 中国激光,2006,33(6):827, 831.
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