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沉积温度对电子束蒸发HfO2薄膜残余应力的影响
其他题名Influences of deposition temperature on residual stress of HfO2 films prepared by electron beam evaporation
申雁鸣; 贺洪波; 邵淑英; 范正修
2006
发表期刊中国激光
ISSN0258-7025
卷号33期号:6页码:827
摘要采用电子束蒸发沉积方法在BK7玻璃基底和熔融石英基底上沉积了HfO2薄膜,研究了不同沉积温度下的应力变化规律。利用ZYGO干涉仪测量了基片镀膜前后曲率半径的变化,计算了薄膜应力。结果发现在所考察的实验条件下HfO2薄膜的残余应力均为张应力,应力值随沉积温度的升高先增大后减小。两种基底上薄膜的残余应力的主要产生机制不同。对于BK7玻璃基底HfO2薄膜的残余应力起决定作用的是内应力,熔融石英基底上HfO2薄膜的残余应力在较低沉积温度下制备的薄膜起决定作用的是热应力,在沉积温度进一步升高后内应力开始起决定作用。
关键词薄膜 Hfo2薄膜 残余应力 沉积温度 基底 电子束蒸发
学科领域光学薄膜
收录类别ei
语种中文
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4292
专题光学薄膜技术研究与发展中心
推荐引用方式
GB/T 7714
申雁鸣,贺洪波,邵淑英,等. 沉积温度对电子束蒸发HfO2薄膜残余应力的影响[J]. 中国激光,2006,33(6):827, 831.
APA 申雁鸣,贺洪波,邵淑英,&范正修.(2006).沉积温度对电子束蒸发HfO2薄膜残余应力的影响.中国激光,33(6),827.
MLA 申雁鸣,et al."沉积温度对电子束蒸发HfO2薄膜残余应力的影响".中国激光 33.6(2006):827.
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