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学科主题: 光学薄膜
题名:
薄膜应力研究
其他题名: A Review of Study of Stress in Thin Films
作者: 邵淑英 ; 范正修 ; 范瑞瑛 ; 邵建达
关键词: 薄膜应力 ; 研究 ; 新进展 ; thin films ; stress
刊名: 激光与光电子学进展
发表日期: 2005
卷: 42, 期:1, 页:22
收录类别: 0
摘要: 综述了近几年薄膜应力研究的重点及新进展,探讨了薄膜应力研究的发展方向。; The research emphasis and the latest advance of stress study in thin films are reviewed, and the dominant direction of the study of thin solid film stress is discussed.
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4144
Appears in Collections:光学薄膜技术研究与发展中心_期刊论文

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邵淑英,范正修,范瑞瑛,等. 薄膜应力研究[J]. 激光与光电子学进展,2005,42(1):22, 27.
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