SIOM OpenIR  > 中科院强激光材料重点实验室
Influence of Annealing on Interface Diffusion and Anti-Chemica-Cleaning Property of Metal-Dielectric Multilayer Films
Zhang H(张洪); Jin YX(晋云霞); Kong FY(孔钒宇); Huang HP(黄昊鹏); Cui Y(崔云); Hu GX(胡国行); Li XT(李响潭); Ge WN(葛雯娜); Ye BJ(叶邦角); zhangustc@siom.ac.cn; yxjin@siom.ac.cn
2016
发表期刊中国激光
卷号43期号:10页码:1003002
摘要Samples of metal-dielectric multilayer films are post-annealed at different temperatures. It is experimentally found that at the annealing temperature of 350℃,a transition layer between Au layer and SiO_2 layer of the samples occurs, and these samples possess the strong anti-chemical-cleaning ability. Based on the investigation by a transmission electron microscope and the analysis by an energy dispersive spectrometer, it is found that the occurrence of transition layers is mainly the result of Cr atoms diffusing from the Au bottom layer to the SiO_2 layer. The transition layer can enhance the adhesion between the Au layer and SiO_2 layer and block the infiltration of acid solutions, thus the anti-chemical-cleaning ability of metal-dielectric multilayer films is enhanced.
文章类型Article
其他摘要对金属介质多层膜样品进行不同温度的退火处理。实验发现,当退火温度为350°C时,在样品Au层与 SiO_2层的界面处出现过渡层,样品具有很强的抗化学清洗能力。利用透射电子显微镜观测与能谱仪分析发现,过渡层的出现主要是Cr原子从Au层底部扩散到SiO_2层的结果。过渡层可以增强Au层与SiO_2层间的粘附力,阻挡酸溶液的渗入,使得金属介质多层膜的抗化学清洗能力得到增强。
部门归属材料
DOI10.3788/CJL201643.1003002
资助者国家自然科学基金 ; 国家自然科学基金 ; 国家自然科学基金 ; 国家自然科学基金
收录类别CSCD
资助者国家自然科学基金 ; 国家自然科学基金 ; 国家自然科学基金 ; 国家自然科学基金
WOS记录号CSCD:5829558
CSCD记录号CSCD:5829558
引用统计
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/28108
专题中科院强激光材料重点实验室
通讯作者zhangustc@siom.ac.cn; yxjin@siom.ac.cn
作者单位中国科学院上海光学精密机械研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
Zhang H,Jin YX,Kong FY,et al. Influence of Annealing on Interface Diffusion and Anti-Chemica-Cleaning Property of Metal-Dielectric Multilayer Films[J]. 中国激光,2016,43(10):1003002.
APA 张洪.,晋云霞.,孔钒宇.,黄昊鹏.,崔云.,...&yxjin@siom.ac.cn.(2016).Influence of Annealing on Interface Diffusion and Anti-Chemica-Cleaning Property of Metal-Dielectric Multilayer Films.中国激光,43(10),1003002.
MLA 张洪,et al."Influence of Annealing on Interface Diffusion and Anti-Chemica-Cleaning Property of Metal-Dielectric Multilayer Films".中国激光 43.10(2016):1003002.
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