中国科学院上海光学精密机械研究所机构知识库
Advanced  
SIOM OpenIR  > 信息光学开放实验室  > 期刊论文
题名:
浸没式光刻技术的研究进展
作者: 袁琼雁 ; 王向朝 ; 施伟杰 ; 李小平
关键词: 光刻 ; 浸没式光刻 ; 投影物镜 ; 浸没液体 ; 偏振光照明 ; 气泡
刊名: 激光与光电子学进展
发表日期: 2006
卷: 43, 期:8, 页:13
收录类别: 0
摘要: 浸没式光刻技术是将某种液体充满投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片之间来增加系统的数值孔径,可以将193nm光刻延伸到45nm节点以下。阐述了浸没式光刻技术的原理,讨论了液体浸没带来的问题,最后介绍了浸没式光刻机的研发进展。
语种: 中文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/1988
Appears in Collections:信息光学开放实验室_期刊论文

Files in This Item: Download All
File Name/ File Size Content Type Version Access License
20056_609.pdf(665KB)----开放获取--View Download

Recommended Citation:
袁琼雁,王向朝,施伟杰,等. 浸没式光刻技术的研究进展[J]. 激光与光电子学进展,2006,43(8):13, 20.
Service
Recommend this item
Sava as my favorate item
Show this item's statistics
Export Endnote File
Google Scholar
Similar articles in Google Scholar
[袁琼雁]'s Articles
[王向朝]'s Articles
[施伟杰]'s Articles
CSDL cross search
Similar articles in CSDL Cross Search
[袁琼雁]‘s Articles
[王向朝]‘s Articles
[施伟杰]‘s Articles
Related Copyright Policies
Null
Social Bookmarking
Add to CiteULike Add to Connotea Add to Del.icio.us Add to Digg Add to Reddit
文件名: 20056_609.pdf
格式: Adobe PDF
此文件暂不支持浏览
所有评论 (0)
暂无评论
 
评注功能仅针对注册用户开放,请您登录
您对该条目有什么异议,请填写以下表单,管理员会尽快联系您。
内 容:
Email:  *
单位:
验证码:   刷新
您在IR的使用过程中有什么好的想法或者建议可以反馈给我们。
标 题:
 *
内 容:
Email:  *
验证码:   刷新

Items in IR are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

 

 

Valid XHTML 1.0!
Powered by CSpace