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用于光刻机照明均匀化的微柱面镜阵列设计
其他题名Design of Micro-Cylindrical-Lens Array Used for Illumination Uniformization in Lithography Systems
肖艳芬; 朱菁; 杨宝喜; 胡中华; 曾爱军; 黄惠杰; 肖艳芬, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800, 中国.; 朱菁, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800, 中国.; 杨宝喜, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800, 中国.; 胡中华, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800, 中国.; 曾爱军, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800, 中国.; 黄惠杰, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800, 中国.
2013
发表期刊中国激光
卷号40期号:2页码:216001
摘要均匀照明是投影光刻机中实现光刻线条高度均一性的重要条件。采用微透镜阵列作为照明匀光器件,能够在实现矩形照明光斑的同时获得极高的远场分布均匀性。基于微透镜阵列现有的加工工艺,设计出二维方向分开的柱面微透镜阵列,并通过优化设计,克服了微透镜之间的接缝在远场光场处产生的中心亮线。仿真分析表明,所设计的微透镜阵列的远场分布不均匀性达到0.85%。
文章类型Article
其他摘要Uniform illumination is an important condition for maintaining high uniformization consistence of lithography lines in projection lithography. Micro-lens array used as the illumination uniformization component can make the rectangular illumination spot as well as acquire high far field uniformization. Based on modern processing technology, the cylindrical micro-lens array divided in two-dimension is designed, and the central bright line in the far field created by the transition area between the micro-lens array is eliminated. Simulation results show that the far field non-uniformi of the designed micro-lens array reaches 0.85%.
资助者国家科技重大专项 ; 国家科技重大专项 ; 国家国际科技合作项目 ; 国家国际科技合作项目 ; 国家科技重大专项 ; 国家科技重大专项 ; 国家国际科技合作项目 ; 国家国际科技合作项目
收录类别EI
语种中文
资助者国家科技重大专项 ; 国家科技重大专项 ; 国家国际科技合作项目 ; 国家国际科技合作项目 ; 国家科技重大专项 ; 国家科技重大专项 ; 国家国际科技合作项目 ; 国家国际科技合作项目
文献类型期刊论文
版本出版稿
条目标识符http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/14936
专题信息光学与光电技术实验室
通讯作者肖艳芬, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800, 中国.; 朱菁, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800, 中国.; 杨宝喜, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800, 中国.; 胡中华, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800, 中国.; 曾爱军, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800, 中国.; 黄惠杰, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800, 中国.
作者单位1.Xiao Yanfen, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China.
2.Zhu Jing, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China.
3.Yang Baoxi, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China.
4.Hu Zhonghua, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China.
5.Zeng Aijun, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China.
6.Huang Huijie, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China.
推荐引用方式
GB/T 7714
肖艳芬,朱菁,杨宝喜,等. 用于光刻机照明均匀化的微柱面镜阵列设计[J]. 中国激光,2013,40(2):216001.
APA 肖艳芬.,朱菁.,杨宝喜.,胡中华.,曾爱军.,...&黄惠杰, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800, 中国..(2013).用于光刻机照明均匀化的微柱面镜阵列设计.中国激光,40(2),216001.
MLA 肖艳芬,et al."用于光刻机照明均匀化的微柱面镜阵列设计".中国激光 40.2(2013):216001.
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